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真空镀膜设备离子镀膜上的创新方法

2019-09-21 17:44 遵化宝瑞钛金设备 次阅读

真空镀膜设备多弧离子镀膜上的创新方法,所谓多弧离子镀膜就是置待镀材料和被镀基板于室内,真空镀膜机多弧离子镀膜采用一定方法加热待镀材料,使之蒸发或升华,并飞行溅射到被镀基板表面凝聚成膜的工艺。

多弧离子镀膜的方法,在条件下成膜有很多优点,可减少蒸发材料的原子、分子在飞向基板过程中于分子的碰撞,减少气体中的活性分子和蒸发源材料间的化学反应(如氧化等),以及减少成膜过程中气体分子进入薄膜中成为杂质的量,从而提供膜层的致密度、纯度、沉积速率和与基板的附着力。

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真空镀膜设备多弧离子镀膜工艺不仅避免了传统表面处理的不足,且各项技术指标都优于传统工艺,在五金、机械、化工、模具、电子、仪器等领域有广泛应用。催化液和传统处理工艺相比,在技术上有哪些创新?

1、多弧离子镀膜不用电、降低了成本、成本仅为多弧离子镀膜镍的二分之一,真空镀膜机多弧离子镀膜铬的三分之一,不锈钢的四分之一,可反复利用,大大降低了成本。

2、多弧离子镀膜易操作、工艺简单、把金属基件浸入兑好的液体中“一泡即成”,需要再加工时不经任何处理。

3、多弧离子镀膜无污染,无毒无味,无三废排放,属国家环保产品技术。

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4、多弧离子镀膜好处理、使用方便;形状复杂的金属基件都能处理。

5、多弧离子镀膜硬度大,硬度增强、催化液泡过的金属基件硬度是多弧离子镀膜工艺的几倍。

6、多弧离子镀膜不会生锈,催化液浸泡过的金属基件已渗透表皮里面,不起皮、不脱落。

AZ31镁合金磁控溅射镀铝膜的性能研究

采用超真空磁控溅射镀膜设备在AZ31镁合金表面进行了铝保护膜的镀覆,利用辉光放电光谱分析和纳米压痕/划痕试验技术,研究了镀层的成分和显微力学性能随薄膜深度的分布。结果表明,铝镀层在镁合金基体表面形成,镀层和基体之间存在混融的过渡层,铝镀层的表面硬度、弹性模量等高于镁合金基体的,并随深度增加而递减,膜层与基体结合良好并表现出一定塑性、镀铝膜有利于镁合金表面防护层的形成。

镁合金在腐蚀性环境中,不能像铝合金那样在表面形成保护性钝化膜,而易作为阳极遭受电偶腐蚀,这在一定程度上限制了其应用。在镁合金的表面形成一层致密的铝层或合金层能有效地减缓镁合金的腐蚀[1-2],如在镁合金表面喷涂铝防护层能够有效的形成防腐蚀保护层,但这种涂层较厚,表面粗糙度较高。

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磁控溅射镀膜是一种比较重要的物理气相沉积镀膜技术,溅射镀膜是指在真空室中,利用核能粒子轰击靶材表面,通过粒子动量传递打出靶材中的原子及其他粒子,并使其沉积在基体上形成薄膜的技术。利用磁控溅射在镁合金表面形成保护性膜层,以提高合金的防蚀性、耐磨性等已经取得了一些可喜的进展[5]。本文利用超真空磁控溅射镀膜设备,在AZ31镁合金表面进行了磁控溅射铝保护膜的镀覆;利用辉光放电光谱分析技术和纳米压痕划痕试验技术,研究了表面膜层的成分和显微力学性能。

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