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真空镀膜机的安装多靶离子束溅射镀膜机

2019-07-05 11:59 遵化宝瑞钛金设备 次阅读

真空镀膜机应安置于清洁而干燥的室内。镀膜工作室的环境应是空气清洁,设有空调设备,室温一般在23~25℃之间,相对湿度为60%左右。工作室温度太高会影响抽速,温度太低则机械泵难以起动。室内太潮湿会影响膜层质量。由于大多数膜料都有不同程度的毒性,当钟罩打开时会飞散在室内空气中,因此在钟罩附近应安装抽风设备,以便在钟罩打开时抽掉真空室内的有毒气体与飞扬的碎屑。镀膜机应装在靠墙处,但四周应留有检修与操作空间,并有冷却水源,水压约为3个大气压。镀膜机的防振要求不高,无需特殊机座,但必须安置平稳,不应有振动。

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多靶离子束溅射镀膜机是研究超导、类金刚石、光学、磁性等高质量薄膜和材料表面改性的光机一体化的现代化镀膜设备。该机采用四靶、双离子源、离子源为考夫曼源。其原理是利用具有1500ev能量的正离子束或中性粒子轰击靶材料,使材料表面的原子和分子从母材中溅射出来,沉积在基片上成膜。可镀制任意材料,包括金属、合金、超导体、半导体、绝缘体等。该机采用80年代刚刚发展起来的离子束溅射技术,利用双离子源、主枪,对靶材轰击,辅枪在镀前对基片进行清洗,增强基片的活性,提高结合力及纯度。沉积过程中低能轰击膜,增强沉积原子表面扩散和迁移,减少薄膜结晶结的缺陷,并配有对基片处理的各种功能,如加热、冷却、旋转、激光处理、掩膜等。引出栅φ25mm离子能量,1500ev能量束流大于80mA。

离子溅射镀膜机

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多靶离子束溅射镀膜机系统在高精度光学薄膜沉积应用中处于领先地位。多靶离子束溅射镀膜机是当今仅存的在同一系统可互换使用行星型,简单旋转型或可翻转型基片装置的系统。

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在通信应用上,能用于沉积高产值的200,100和50GHz 具有窄通带, 宽截止频带, 高隔离度, 低插损特性的DWDM滤波器,满足最为严格的性能指标。在其它高精度光学应用上,多靶离子束溅射镀膜机能用于沉积增透膜,复杂的非四分之一波长膜层,以及吸收和散射低于百万分位的超低损耗激光镜。

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