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真空泵里选真空系统配置要考虑什么?

2019-08-09 15:57 遵化宝瑞钛金设备 次阅读

真空镀膜机射频溅射镀膜方法和特点小编在这里为您做一个详细的介绍,帮助您更加全面的了解真空镀膜机的使用,感兴趣的朋友可以一起来看看下面的内容。

真空镀膜机在真空室中,设置两个极板并施加频率在50kH以上的高频电,则处于高频电场中的少量电子在高频电场的作用下加速,与气体分子发生碰撞,使气体分子电离而放出电子,这些电子又会被高频电场加速,最终形成高频辉光放电。真空高频辉光放电的两电极的辉光没有区别,各自有阴极暗区和负辉区,等离子柱在两极之间。高频电源的输入耦合方式有电容耦合方式和电感耦合方式。

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平板电极射频溅射的靶通过匹配回路与射频电源相连,当溅射装置内的布置变化时,适当调整匹配回路,使放电阻抗与电源阻抗相匹配,可有效地输入射频功率,为了使放电区限制在靶与基片之间,在沿着垂直于靶的方向上加磁场。延长电子的运动距离,提高放电电流。两极间等离子区的离子轰击靶表面产生溅射,溅射原子在基片上沉积形成膜层。

射频溅射多用13.56MH射频电源,功率为0.3~10kW,溅射气体压强为1~10-1Pa.射频溅射靶需施加高频电压,并需要水冷却,因此绝缘性能要好,其引水管必须有一定的长度,水电阻要足够大。

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射频溅射是用于溅射绝缘靶材镀制绝缘薄膜的方法,用射频放电能溅射绝缘材料,其原因是,当靶材为绝缘材料时,放电的等离子区中电子的迁移率远远大于离子的迁移率,电子撞击靶材时在靶的表面积存,使靶表面自动地加上负偏压,等离子区中的正离子受靶负电位的吸引轰击靶表面产生溅射,基片附近的正离子却没有电场加速,因此基片不产生溅射。

真空泵里选真空系统配置要考虑什么?

真空泵里选真空系统配置要考虑什么?真空泵作用就是从真空室里抽除气体分子,降低真空室内气体压力,使之达到要求真空度。概括地讲从大气到极高真空有一个很大的范围,至今为止还没有一种真空系统能覆盖这个范围。

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所以为了可以达到不同产品的工艺指标,工作效率和设备工作寿命要求、不同的真空区段需要选择不同的真空系统配置,为达到最佳配置,选择真空系统时,应考虑下述各点:

1、确定工作真空范围

首先,我们一定要检查确定每种工艺要求的真空度,因为每一种工艺都有其适应的真空度范围,必须认真研究确定之。

2、确定极限真空度

在确定了工艺要求的真空度基础上检查真空系统的极限真空度,因为系统的极限真空度决定了系统的最佳工作真空度。一般来讲,系统的极限真空度比系统的工作真空度低20%,比前级泵的极限真空度低50%。

3、主真空泵的选择计算

s=2.303v/tlog(p1/p2)

其中:s为真空泵抽气速率、v为真空室容积、t为达到要求真空度所需时间、p1为初始真空度、p2为要求真空度。

4、真空容积

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检查确定达到要求的真空度所需时间,真空管道的流阻与泄漏。考虑达到要求真空度后在一定工艺要求条件下维持真空需要的抽气速率。

5、被抽气体种类与抽气量

真空镀膜机公司指出,经过检查确定工艺要求的抽气种类和抽气量,由于若被抽气体的种类和真空泵内液体发生反应,泵系统将被污染。同时必须考虑确定合适的排气时间与抽气过程中产生的气体量。

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