宝瑞钛金设备

BAORUI TITANIUM EQUIPMENT

真空镀膜机蒸发与磁控溅射镀铝功能塑料真空镀如何选择金属和涂料

2019-02-20 15:43 遵化宝瑞钛金设备 次阅读

在有些场合,可以用塑料代替金属,但是塑料缺乏金属的质感,为此需要采用一定的方法,在塑料表面镀上一层金属,一种方法是采用类似化学镀和电镀的方法,另一种是直接在塑料表面进行真空喷镀金属即在真空状态下,将金属融化后,以分子或原子形态沉积在塑料表面形成510m的金属膜。

宝瑞钛金 PVD 设备品质保障

钛金设备,PVD设备,大型镀板机,大型镀管机

采用真空镀膜机对塑料表面进行镀膜时,需要与塑料表面底漆之间的良好配合,底漆的厚度通常为1020m,主要作用是防止塑料中水、有机溶剂、增塑剂等排出影响金属附着。要求涂层硬度高、底漆具有可以修饰塑料缺陷,能提供一个光滑、平整的平面以利于真空镀的性能,并与塑料底材和所镀金属附着牢固。通常选用双组分常温固化的聚氨酯和环氧涂料,低温烘烤的氨基涂料以及热塑性丙烯酸酯涂料。

金属镀膜在空气中容易氧化变暗,同时还存在细微的真空等缺陷,所以要再涂上一层510m的保护面漆。对面漆的要求是:透明、优良的耐水性、耐磨性、耐候性,不操作镀金属膜,对金属镀膜附着牢固。通常可采用丙烯酸酯清漆、聚酯清漆、聚氨酯清漆等,当底漆采用的是热塑性丙烯酸酯涂料时,为防止面漆溶剂通过镀膜缺陷溶蚀底漆,可以选用弱溶剂、快干性的面漆,如丙烯酸改性醇酸清漆、聚乙烯醇缩丁醛清漆、氨酯油等。

宝瑞钛金 PVD 设备品质保障

钛金设备,PVD设备,大型镀板机,大型镀管机

真空镀膜机蒸发与磁控溅射镀铝功能

真空镀膜机蒸发与磁控溅射镀铝功能,真空镀膜机电子束蒸发与磁控溅射镀铝功能剖析研究,为了取得功能杰出的半导体电极Al膜,我们经过优化技术参数,制备了一系列功能优越的Al薄膜。经过理论核算和功能测验,剖析对比了真空镀膜设备电子束蒸发与磁控溅射两种办法制备Al膜的特色。

宝瑞钛金 PVD 设备品质保障

钛金设备,PVD设备,大型镀板机,大型镀管机

严格操控发Al膜的厚度是十分重要的,因为Al膜的厚度将直接影响Al膜的其它功能,然后影响半导体器材的可靠性。关于高反压功率管来说,它的工作电压高,电流大,没有必定厚度的金属膜会构成成单位面积Al膜上电流密度过高,易焚毁。关于通常的半导体器材,Al层偏薄,则膜的连续性较差,呈岛状或网状结构,导致压焊引线艰难,构成不易压焊或压焊不牢,然后影响成品率;Al层过厚,导致光刻时图形看不清,构成腐蚀艰难并且易发生边际腐蚀和“连条”表象。

宝瑞钛金 PVD 设备品质保障

钛金设备,PVD设备,大型镀板机,大型镀管机

选用真空镀膜机电子束蒸发,行星组织在堆积薄膜时均匀滚动,各个基片在堆积Al膜时的概率平等;行星组织的聚集点在坩埚蒸发源处,各个基片在必定真空度下堆积速率简直持平。选用真空镀膜机磁控溅射镀膜办法,因为堆积电流和靶电压能够操控,也便是溅射功率能够调理并操控,因此膜厚的可控性和重复性较好,并且可在较大外表上取得厚度均匀的膜层。

附着力反映了Al膜与基片之间的彼此作用力,也是确保器材经久耐用的重要因素。真空镀膜设备溅射原子能量比蒸发原子能量高1-2个数量级。真空镀膜机高能量的溅射原子堆积在基片上进行的能量变换比蒸发原子高得多,发生较高的热能,有些高能量的溅射原子发生不一样程度的写入表象,在基片上构成一层溅射原子与基片原了彼此溶合的伪分散层,并且,在真空镀膜设备成膜过程中基片一直在等离子区中被清洁和激活,清除了附着力不强的溅射原子,净化且激活基片外表,增强了溅射原子与基片的附着力,因此溅射Al膜与基片的附着力较高。

服务热线

0315-6985576

13301295576

微信服务号

微信服务号

请您留言
回到顶部