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真空镀膜机镀铬层介绍真空离子镀膜机涂层的特点及其应用范围

2019-06-27 08:45 遵化宝瑞钛金设备 次阅读

当浓度电解试验真空电镀设备不变,真空镀膜机改变电流密度、电解液的温度,光滑的铬可以得到三种不同的晶格层,即灰色的脸,明亮和乳白色铬层。

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1、灰色铬层在低的温度下获得的,镀膜机在高电流密度下的铬层。从高高的程度,韧性的方法,一个网状图案,色彩浓烈,黑暗水晶。用测量工具,镀铬。

2、亮铬层是在介质温度得到的铬层,镀膜机小电流密度。高硬度(HV = 800),韧性好,耐磨,内应力小,密集的网格线,细晶,表面光亮。适用于磨损零件的修复。

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3、乳白铬层是在较高的温度下得到的铬层,镀膜机电流密度低,硬度低的塑料涂层机,塑性好,无网状皱纹,细晶,像白色的,适用于冲击载荷的零件增加尺寸和镀装饰铬。

多孔(松孔镀铬,镀铬层)镀膜机与点状铬层及铬层沟状两种,可用电化学方法和机械方法。多孔镀铬吸附润滑油的性能。因此,具有更好的耐磨性。

真空离子镀膜机涂层的特点及其应用范围

离子镀膜机与蒸发镀膜机、溅射镀膜机相比,最大的特点是荷能离子一边轰击基体与膜层,一边进行沉积。荷能离子的轰击作用所产生一系列的效应,主要有如下几点:

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①膜/基结合力(附着力)强,膜层不易脱落。由于离子轰击基体产生的溅射作用,使基体受到清洗,激活及加热,既可以去除基体表面吸附的气体和污染层,也可以去除基体表面的氧化物。离子轰击时铲射的加热和缺陷可引起基体的增强扩散效应。既提高了基体表面层组织结晶性能,也提供了合金相形成的条件。而且,较高能量的离子轰击,还可以产生一定的离子注入和离子束混合效应。

②离子镀膜机由于产生良好的绕射性。在压力较高的情况下(≧1Pa)被电离的蒸汽的离子或分子在到达基体前的路程上将会遇到气体分子的多次碰撞。因此,可使膜材粒子散射在基体的周围。从而改善了膜层的覆盖性。而且,被电离的膜材离子,还会在电厂的作用下沉积在具有负电压基体表面的任意位置上。因此,这一点蒸发镀是无法达到的。

③镀层质量高。由于离子轰击可提高膜的致密度,改善膜的组织结构,使得膜层的均匀度好,镀层组织致密,针孔和气泡少。因此,提高了膜层的质量。

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④沉积速率高,成膜速度快,可制备30μm的厚膜。

⑤镀膜所适用的基体材料与膜层材料均比较广泛。适用于在金属或非金属表面上镀制金属、化合物、非金属材料的膜层。如在钢铁、有色金属、石英、陶瓷、塑料等各种材料表面镀膜。由于等离子体的

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